Cette enceinte permet de coupler la pulvérisation magnétron au GLAD (glancing angle deposition) c’est-à-dire d’avoir un substrat mobile suivant deux axes de rotation : inclinaison et rotation du substrat. Possibilité d’obtenir des films très poreux et nanostructurés en colonnes inclinées, colonnes verticales, zigzags, hélices. Possibilité de cristalliser les films in situ. Idéal pour les applications de cellule solaire et de photocatalyse qui demandent des films mince avec une large surface spécifique. Un implanteur ionique est également connecté sur cette enceinte, permettant de modifier la surface et la composition chimique des couches nanostructurés par dopage. La pulvérisation magnétron statique ou en angle rasant et l'implantation ionique peuvent donc être couplés sur cet équipement.

 

Notre point fort :

  • Possibilité de combiner, in situ, la pulvérisation magnétron statique ou en angle rasant à l'implantation ionique, le toute jusqu'à une température de 500°C pendant les traitements
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