Système de tonneau rotatif
La technologie du système de tonneau rotatif développée par Materia Nova et IONICS consiste en un dépôt plasma sous vide capable de revêtir des poudres (de taille allant du micron à plusieurs millimètres), des billes ou de petites pièces en vrac. Cette technologie dite «froide» a pour avantage de pouvoir traiter n’importe quel type de substrat ne pouvant pas s’échauffer à plus de 50°C (métaux, polymères, céramiques).
Elle permet en outre de déposer des matériaux de compositions chimiques très variées comme les métaux et leurs composés céramiques (oxydes, nitrures, carbures...) mais aussi des polymères. Les dépôts réalisés vont de quelques dizaines de nanomètres jusqu’au micromètre.
La composition du dépôt et donc de la poudre après traitement peut être réglée de manière fine afin d’ajuster la composition de la poudre au désir du consommateur final. De plus, s’il est possible de réaliser des « nanostructures » afin d’optimiser la surface spécifique des particules, il est également possible de réaliser un dépôt recouvrant parfaitement la surface de chaque grain constituant la poudre (formation d’un «core-shell).
Les applications de cette technologie sont diverses dans les domaines tels que les colles techniques (conductrices par exemple), la catalyse, les matériaux composites, le frittage, la projection thermique, la fabrication additive, etc.
Les équipements disponibles chez Materia Nova permettent de réaliser:
1/ des productions expérimentales avec l'équipement ABBEADS I et II: Volume de traitement : 0,1- 0,5 litres; Poudres : 0,5 à 500µm; Petites pièces et perles : mm à cm ; 1 ou 2 cathodes ;Bobine RF ; Tous types de revêtements (nitrures, carbures,…) ; Fonctionnalisation, Oxydation/réduction
2/ des productions de petites séries avec l'équipement Plameco: Volume de traitement : 5 litres, Poudres : 0,5 à 500µm; Petites pièces et perles : mm à cm; 1 ou 2 cathodes ; Bobine RF; Tous types de revêtements (nitrures, carbures,…); Fonctionnalisation, Oxydation/réduction