Savannah ALD Process System- Cambridge Nanotech

Cet équipement permet le dépôt de couches atomiques denses à des températures basses de métaux et d’oxydes métalliques divers (dont certains peuvent être transparents en fonction des conditions de dépôt) grâce à l’entraînement par un gaz porteur (typiquement de l’azote) de précurseurs chimiques. La méthode est une méthode de dépôt « douce » permettant le dépôt directement sur des supports organiques « fragiles » et sur des surfaces conformées 3D. Les applications sont multiples : encapsulation de dispositifs opto-électroniques, dépôts d’électrodes transparentes, le traitement des semi-conducteurs, le dépôt d’oxydes transparents conducteurs, le dépôt de diélectriques de haute qualité, de couches barrière et le dépôt d'oxydes métalliques sur des substrats présentant une surface spécifique élevée pour les applications de capteurs, ou batteries.