SPECTROMÉTRIE DE MASSE D’IONS SECONDAIRES À TEMPS DE VOL (TOF-SIMS)

Le ToF-SIMS permet de déterminer avec précision la  composition élémentaire, isotopique ou moléculaire en extrême surface des échantillons (<1 nm de profondeur) par spectrométrie de masse.  Grâce à sa haute résolution spatiale (50nm) et à sa grande sensibilité (jusqu'au ppm), il fournit une analyse détaillée de la surface des matériaux polymères, céramiques, métalliques ou  semi-conducteurs.

L’information moléculaire issue du ToF-SIMS est utilisée pour déterminer la famille de composés organiques, voire d’identifier certaines molécules (contaminations, additifs,…) présentes en surface même en quantité infime (couche monomoléculaire).

Outre l'analyse de surface de haute précision, l'équipement est muni de plusieurs canons de profilage utilisés pour réaliser des profils de composition en profondeur sur plusieurs microns dans la plupart des matériaux.

En combinant l'utilisation du FIB (Focused Ion Beam) et de la nanosonde à haute résolution de (50nm), il est possible d'analyser la surface d'échantillons rugueux et de réaliser des cartographies chimiques très précises en 3D.

Ces caractéristiques en font un instrument essentiel pour étudier les matériaux avancés d'aujourd'hui et pour répondre à vos besoins en matière de caractérisation et de résolution de défaillances dans de nombreux domaines d'application tels que :

• La détermination de l'origine d'un problème d'adhésion ou d'un défaut sur un revêtement,
• L'identification d'une pollution de surface ou localisée à une interface,
• La validation de la (bio)fonctionnalisation de surface d'un implant ou d'un capteur,
• La caractérisation d'un empilement de micro/nano couches,
• La cartographie chimique de revêtements, de comprimés, de matrices composites, etc.