UV/Ozon UVOCS Inc. – T10X10-Modell
Das UV/Ozon-Reinigungsverfahren bietet eine einfache, kostengünstige und schnelle Methode, um ultrareine Oberflächen zu erhalten, die frei von organischen Verunreinigungen sind. Dieses Verfahren ist ideal, wenn eine Dünnfilmabscheidung mit hervorragender Oberflächenhaftung erforderlich ist. Ultrareine Oberflächen können leicht durch UV-/Ozonbehandlung innerhalb von einer bis mehrere Minuten erzielt werden, nachdem die Oberfläche mit herkömmlichen Techniken gereinigt wurde. Der UV-/Ozon-Reiniger ist nicht dafür ausgelegt, grobe Verunreinigungen zu entfernen. Die typischen Zeiten für eine UV-/Ozon-Reinigung betragen etwa 1 Minute.
