Savannah ALD Process System- Cambridge Nanotech

Unsere AusstattungForschung und EntwicklungGeräteherstellung und -charakterisierung

Mit diesem Gerät können dichte Atomschichten aus verschiedenen Metallen und Metalloxiden (einigen können nach Abscheidungsbedingungen transparente sein) bei niedrigen Temperaturen dank des Flusses chemischer Precusoren in einem Trägergas (typisch Stickstoff). Diese Methode ist mild und ermöglicht es, direkt auf “brüchige” organische sowie 3D konforme Oberflächen. Die Anwendungen sind vielfältige: Verkapselung von optoelektronischen Geräten, Abscheidung transparenter Elektroden, Behandlung der Halbeiter, Abscheidung transparenter leitender Oxide, Abscheidung hochwertiger Dielektrika, Barriereschichten und die Abscheidung von Metalloxiden auf Substraten mit einer hohen spezifischen Oberfläche für Sensor- oder Batterieanwendungen.

Stärke

  • Niedrigtemperatur- und Vakuum-ALD, um sehr dichte Aluminiumoxidschichten für die effiziente Verkapselung von O2- und H2O-empfindlichen Materialien/Geräten
  • Das Gerät ist mit einer Glovebox verbunden, um Abscheidung und Oberflächen in kontrollierter Atmosphäre zu behandeln.
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